突发！管制升级，全面封锁？

史上最严的对华芯片管控法案

昨天晚上，美国的国会抛出了史上最严的对华芯片管控法案。这个法案通过后，将会在接下来的半年内对我国的芯片生产带来史无前例的技术封锁。更重要的是，两党法案落地的可能性极大。这个法案是由美国共和党众议员联合两党议员，由参议院同步提出配套版本。

支持法案的主要几条内容：第一，强制要求荷兰、日本等盟国在150天内将本国对华半导体制造设备出口管制措施，与美国对其实施同等管制；第二，扩大半导体设备管制清单，对受关注国家全面禁止出口关键半导体制造设备，具体包括深紫外DUV浸没式光刻机、低温刻蚀设备、沉积设备以及其他关键节点半导体制造设备；第三，明确对国内的长鑫、长存、中芯、华虹，还有一个不能说，以及它的相关子公司实施更加严厉的全面出口限制；第四，全面维护禁令，严禁对中国工厂提供任何安装、维护、校准以及后期的软件更新。

虽然说这次法案的提出并不完全等同于立即落地生效，但参议院同步配套，而且具备明确实施时间的立法提案，此次落地概率是高于之前一系列的象征性法案的。

美国如何扩大执法半径

虽然说老美的先进制程设备在拜登时期已经对我们进行非常全面的收紧，但是这一次把盟友像荷兰、日本这样的先进制程半导体设备的出口大国，一并纳入到与美国趋同的出口管理框架，通过域外管辖、执法延伸服务、不禁令和任何比例美国原产受控物项的表述，来显著扩大了美国的执法半径。

也就是说，只要是你们的设备里含有任何美国制造的零部件，我就有权不让你出口到中国。比如说像EUV光刻机这样的庞然大物，阿斯麦只是一个组装厂的成分，实际上有超过10万个零部件分散在世界上各个国家、5000个供应商手里面。比如说你要用到美国Cymer的光源，比如说要用到美国通快的激光器，还比如其他设备上的掩膜版、微激光系统、光照离子注入机组件等等等等。那么这些美国厂商的关键零部件，在机器设计定型的时候，就是紧密地关联绑定在一起的，这时候是没办法进行更换的，所以荷兰和日本只能听美国的话。

美国出台法案的背景

那么美国出台这条法案的背景和原因是什么呢？因为看到了这两年我们先进制程在突飞猛进地来支持国产算力的发展，老美发现拜登时期的种种禁令，非但没有遏制住我们的科技发展，反而帮助我们实现了更快速度的差距追赶。

具体是哪些原因？虽然禁止了最先进的EUV，但是我们仍然是能够采购到荷兰阿斯麦的，比如说1980i的浸没式DUV，来通过多重曝光技术生产出7nm甚至5nm的芯片。这些光刻机的机台在过去一年的时间里面，在被国内的各大厂商大量地购买，甚至提前囤积，所以才能够支撑那些还没有被美国纳入到清单之中的公司进行大规模的扩产。

而且这种亚先进制程的光刻机，不光阿斯麦能卖，日本的尼康也能卖，甚至我们在同步发展自己的国产光刻机的时候，还能通过向日本厂商来订购这些关键的零部件。而且这些订单和进展都呈现在了这些对我国出口先进制程半导体设备的公司的公告里，同时也让美国看到了我们的国产算力正在突飞猛进，所以才会有让他们H200迟迟不能入华的底气和信心。所以老美这次要拉上荷兰和日本，对我们进一步地围追堵截。

那么在这呢，插播个题外话。其实我们先进制程这两年的突飞猛进，川字其实是做了巨大的贡献。因为川字商人利益第一，刚开始没想到那么长远的事。川普上台后在跟全球各个国家做交易、搞贸易谈判、搞局部战争，反而弱化了对我们的封锁，同时还在科技上试图跟我们做大量的交易。他们更长远的政治眼光和战略手段还是绝对在线的，四处拱火，又不出头，同时对我们进行各种技术上的围追堵截，所以那几年我们是非常难受的，开始在着手解决了。

我们的预判与准备

那么我们有没有这样的预判和准备呢？当然是有的。从去年开始，我国光从阿斯麦一家进口的光刻机的数量和金额就持续创下了新高，直到现在。其次我们还从二手市场得到了大量的能够支撑我们现阶段DUV甚至是将来的EUV量产和研发的关键零组。而且在一些还未跑通的厂房和产线里，有的扩产计划还没有真正地实施，但光刻机的机台却早已准备。

那么在用着阿斯麦光刻机的时候，我们也居安思危，国产的浸没式光刻机也在持续地推进中。前几天做镀膜设备的相关公司已经接到了浸润式的批量订单，而且机构预计今年至少有三台——北京长鑫、鹏鑫微、华虹各一台——国产浸没式光刻机的需求。当然浸没式光刻机其中的部分关键零组件目前我们仍然需要进口。所以接下来这个法案能否落地的这段观察和商议时间里，也是我们一个宝贵的产业发展窗口。

所以今年我们仍然可以期待国产DUV光刻机的进一步突破，具体就体现在浸没式的ArFi机台良率进一步提升，并不断获得大客户的突破。当然我们的浸没式光刻机取代阿斯麦的1980i光刻机，仍然需要长达两年以上，但是干式的KrF光刻机，我们在今年已经开始向量产迈进。虽然没法用很高的良率来生产出7nm这样的手机甚至算力芯片，但是可以用在存储芯片的生产。

隐形卡脖子：维保断供

那么讲完了最卡脖子的光刻机，这一次法案还有一个隐形卡脖子的点，就是不光让我们新机不能买，还要让我们的旧机台难以维持最佳的工况，那就是要把安装、校准、维修软件、固件更新、技术支持、培训、线下与远程服务全部纳入到出口管制。

因为现在我们囤积的很多亚先进制程的光刻机，在等待我们用多重曝光技术来生产先进制程的芯片，但是维保被断供之后，我们的稳定良率依赖的持续校准和软件更新就要受到影响。还有光刻机光源物镜系统里面的镜片需要3~6个月定期镀膜，这样的维保工作需要用到德国的镀膜设备，也会受到影响。所以无论是硬件还是软件，在将来可预见的维保收紧之下，国内相关厂商的自主可控，我们仍然要实现一个更加速的替代。

国内厂商的应对

但是根据我们机构的调研了解，从去年开始，国内的厂商已经看到相关的矛头，也正在积极地应对将来会发生的断供，这一天我们早有准备。比如说我们的长存正在引用AI技术，通过历史数据来分析故障检测，使用远程维保系统，让工程师能够实时地去监控设备的运行。还有镀膜设备，我们也在研发单位的支持下，对德国的设备进行了反向的拆解，并成功地实施了逆向工程，而且国产的镀膜设备从之前的试验验证阶段，已经到了现在的批量接单阶段。

还有我们做国产光刻机曝光和物镜系统的镜片公司，也在去年开始就向阿斯麦等头部公司积极对接本地的维保工作。毕竟阿斯麦也想继续合规地赚钱，那么他可以通过扶持一些本地的供应商来完成零部件的维保和供应。更何况我们还有一些更隐匿的途径，比如说海外的资产拍卖和一些二手光刻机零部件的引进，甚至是整机组装。

而且从去年开始，为了应对后期的全面封锁和管制升级，我们在最卡脖子的产业的战略层面也做了提前的部署。比如说上海微电子的业务在去年进行了一些关键的分拆，和宇量生又进行了关键的整合，那么留下来的这部分业务在今年也开始首轮的融资。当然这离接下来的IPO仍然还有一段距离，不过在这里也要提醒，此IPO非大家去年炒的IPO，因为这里面的资产可能和大家想象的并不一样。

但是我们目前整体的目标是成熟一个，推向市场一个。那么现在成熟的是什么？I线和KrF DUV光刻机。我只能讲这么多，但不是我只知道这么多，懂得都懂。大家在这里千万别小瞧了这两种光刻机，虽然它并非能生产最先进芯片的，但却是现在光刻机巨头里面出货份额最多的，占了全球光刻机市场2/3以上，而且每年国内的新增需求超过百台，这里面的替代空间也非常巨大。

后续跟踪与风险提示

那么接下来呢，我们就需要跟踪这条法案接下来的通过情况。那么机构预计法案是大概率通过，但是执行的情况会有所差异，最终可能在设备分类、豁免条件和存量设备服务边界等方面出现一些调整，但整体基调是愈加严格。

最后也给大家提醒几点需要警惕的风险。首先，虽然事件在情绪上当然是利好我们的国产替代、自主可控，大家也能看到整个国产算力和自主可控板块，比如生产链、光刻机、靶材、光刻胶仍然有一个逆势的表现，但是国产替代它并非是一个叫线性的兑现，不是说立马要把日本、荷兰扔掉，国产的就立马能用。部分设备和材料的导入仍然需要更多的时间进行可靠性的验证，并进一步提升他们的良率稳定性和批量交付的能力。否则如果是质量不达标下的国产替代，那么这样生产出来的手机芯片、内存芯片、算力芯片，你会用得舒服吗？

其次就是接下来跟踪法案能否落地，以及落地之后的日本和荷兰的配合执行程度。如果执行得比较慢，而且相对松、表态并非一致站队，那么对我们的先进制程的扩产在今年内还不会起到什么太大的影响。毕竟他们都是商人，也想赚钱的，而且没准老美把卖铲子的设备卡死，就是想卖给我们他们更好的芯片。那么如果执行得较快，意志比较坚决，那么在面对接下来的维保压力和新机台的采购压力的时候，此时国产的设备和材料又不能快速地放量进行支撑，那么我们的先进制程的算力芯片和存储芯片有可能会下修明年的预期。

那么这需要接下来紧密地跟踪和观察。短期要重视国产替代，中期要重视影响冲击，长期要重视产业格局的重塑。下一个五年规划完成结束的时候，大家大概率可以看到我们与老美在科技领域能够在正面掰一掰手腕了。